第42回結晶成長討論会　結晶成長討論会賞

c面サファイア基板上Ni薄膜の熱処理結晶化のＸ線回折測定による評価

日本結晶成長学会が主催する第42回結晶成長討論会において、結晶成長討論会賞を受賞しました。本賞は、結晶成長討論会を最も盛り上げる発表、質問をし、これらを通して討論会に貢献した若手が表彰されます。
中島さんが取り組むグラフェンの直接成長技術は、グラフェンの工業的な利用に向けた重要な研究課題です。本発表では、グラフェン成長のために使用するNi触媒の結晶化について報告しました。結晶化のための加熱温度と加熱時間がNi触媒の結晶化に与える影響を系統的に調べ、そのメカニズムに関する考察を行いました。Ni触媒の結晶化は成長するグラフェンの高品質化のために、欠かせない技術です。